x射线近边吸收谱
美国easyXAFS公司z新推出x射线近边吸收谱，采用独·有的X射线单色器设计，无需同步辐射光源，在常规实验室环境中实现X射线吸收精细结构测量和分析，以极高的灵敏度和光源质量，实现对元素的测定、价态和配位结构分析等。此外，该设备还能够进行X射线发射谱测试(XES)，该表征本质上是超高能量分辨率的X射线荧光光谱(high-resolutionXRF)。XAFS和XES可以对样品的局部电子结构实现信息互补。广泛应用于电池、催化剂、环境、放射性化学、地质、陶瓷等研究领域。
XAFS/XES设备特点
无需同步辐射光源
科研级别谱图效果
台式设计，实验室内使用
可外接仪器设备，控制样品条件
可实现多个样品或多种条件测试
操作便捷、维护成本低
催化剂研究：实验室级X射线吸收谱（XAFS）助力解析缺陷位点在OER反应中的作用机制表面缺陷调控工程被认为是提高催化剂催化活性的一种高效方法。因为表面缺陷工程可以有效调控活性位点的配位环境，从而优化催化剂的电子结构，实现电子转移和中间产物（*OH、*O和*OOH）吸附自由能的优化，大大提升催化反应效率。层状双金属氢氧化物（LDH）因其在水氧化（OER）反应中的优异性能而被广泛研究。而表面缺陷的引入将进一步提升其在OER中的催化效率。近期，郑州大学马炜/周震教授及其他合作者成功揭示了NiFe双金属氢氧化物纳米片中表面缺陷对于OER反应的巨大提升作用，同时通过结合X射线吸收谱（台式easyXAFS300+，美国easyXAFS公司），成功揭示了氧化前后催化剂的精细结构变化，为表面缺陷在催化反应中的作用机制提供数据支撑，相关研究成果发表于JournalofMaterialsChemistryA,2021,9(25):14432-14443.
https://www.chem17.com/st166724/product_36852074.html
http://www.chem-qdc.com/SonList-1876110.html