GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及压印的模块数量，达到生产效率。设备支持自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和压印、自动脱模，整个工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。
GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。
主要功能
●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●确保压印结构精度与结构填充完整性
●设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
●全自动预处理步骤，包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在局部洁净环境中自动进行，以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于100片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平
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