设备二维材料制备CVD系统特点：此款CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的反应腔体内部的气体压力和气体流量，对于做低压CVD实验非常实用，重复性好。
https://www.chem17.com/st235110/product_36398691.html
http://www.ahbeiyike.com/SonList-2301667.html
二维材料制备CVD系统
硫粉预热器 | 工作温度：400℃ z高温度：1200℃ z快升温速率：≤30℃/min 推荐升温速率：10℃/min 控温方式：智能化30段可编程控制 工作电压：AC220V 额定功率：800W 控温精度：±1℃ 加热元件：电阻丝 |
